木埜下大祐

レジデンス・プログラム

国内クリエーター制作交流プログラム

更新日:2019.11.7


木埜下大祐

参加プログラム 国内クリエーター制作交流プログラム
活動拠点日本
滞在期間
2012年4月 - 2013年3月
滞在目的

他の国内交流クリエーターとの上記制作活動コンセプトについての共同研究の他、各国のクリエーターへの同コンセプトの周知をはかることにより、単に一個人の創作活動という枠を超えた現代アートシーンにおける共同意識の確立を目指す。

クリエーター情報

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