ホアン・ロペス・ディエズ

レジデンス・プログラム

海外クリエーター招聘プログラム

更新日:2019.11.21


ホアン・ロペス・ディエズ

参加プログラム    海外クリエーター招聘プログラム
活動拠点スペイン
滞在期間 
2011年1月 - 2011年4月
滞在目的

レジデンスへの主目的は、昨年より行ってきた作品を自身が強い関心を示している東京で継続することにあります。同時に、他のアーティストや東京のアートシーンとの経験の共有、観点の交流を持ちたいと願っています。

滞在中の活動

OPEN STUDIO 2010
2010年度 レジデンス成果発表展覧会「TOKYO STORY 2010」
第4回 インターナショナル・アンサンブル・モデルン・アカデミー
TWSの滞在中、新たな道の探求、そして自身の作品をアニメ形式にすることを望んでいます。自身の静的な壁面二次元作品をビデオで投影することを試みたいと思います。
この作品では、壁面への直接的な描写や付着材質である広告板を使って常に建築物認識への修正を試みています。私の現在の目標はこれらをよりダイナミックにすることです。

クリエーター情報

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