2021年度 海外クリエーター招聘プログラム（個別プロジェクト）
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2021年度 海外クリエーター招聘プログラム（個別プロジェクト）
「海外クリエーター招聘プログラム（個別プロジェクト）」はヴィジュアル・アート、映像/映画、デザイン、建築 等の分野のクリエーターを対象に、TOKASレジデンシーでの滞在制作の機会を提供するレジデンス・プログラムです。
居室やシェアスタジオ、制作費などを提供する本プログラムでは、東京での新しい制作活動に専念することができ、その成果をオープン・スタジオや成果発表展などで発表します。
※2021年度 海外クリエーター招聘プログラム（テーマ・プロジェクト）については、新型コロナウイルスの世界的流行により2020年度の実施を見合わせ、同プログラムを2021年度に延期することになりました。そのため2021年度の募集はありません。
概要
滞在期間：2021年9月～11月、または2022年1月～3月（3ヶ月間）
募集人数：4名（各期間に2名ずつ）
募集分野：ヴィジュアル・アート、映像/映画、デザイン、建築
サポート内容：居室（シングルルーム）、渡航費、滞在費、制作費
スタジオ：シェアスタジオを提供
応募方法
「応募要項」「アプリケーションパッケージ」をダウンロードし、応募書類を送付してください。
具体的な応募方法については、「応募要項」をご確認ください。
- 応募要項 Outline_ICR2021.pdf ※英語のみ
- アプリケーションパッケージ Application Package_ICR2021.zip
※リサーチ・レジデンス・プログラムへの同時応募も可能です （応募要項の「応募資格 (Eligibility)」をご確認ください。）
その場合は、それぞれの応募用紙をご記入の上、一緒にお送りください。
応募締切
応募申し込み：2020年6月24日（水）18:00（日本時間）まで
作品データ提出：2020年7月1日（水）18:00（日本時間）まで
FAQ
応募資格
Q1. 過去にレジデンス・プログラムに参加したことがあるのですが、再度応募できますか？
A. 応募できます。
ただし、過去に海外クリエーター招聘プログラム、国内クリエーター制作交流プログラムに参加したことがある方は、同じプログラムへ再度参加することはできません。
Q2. キュレーターは応募できますか？
A. 2021年度海外クリエーター招聘プログラム公募では対象外です。
ただし、リサーチ・レジデンス・プログラムへの応募は可能です。
設備・施設
Q3. レジデンスには、どのような設備がありますか？
A. 応募要項の中の「Residence Facilities」をお読みください。
デュオでの応募
Q4. 海外クリエーター招聘プログラムへデュオで応募した場合、渡航費や滞在費、制作費は1人ずつもらえますか？
A. 滞在費と制作費は1名分のみの提供となりますが、渡航費はそれぞれに提供します。
なお、デュオの1名が国内居住者の場合は、居住地の最寄り駅からTOKASレジデンシーまでの往復交通費相当額を提供します。
Q5. デュオとして1通の応募用紙で一緒に応募することは可能ですか？
A. 応募用紙は各自で記入して一緒に送付してください。
また、応募用紙の「15.制作コンセプトと滞在目的、活動計画」の2)、3)はデュオとしての活動となるため、2人とも同じ内容をご記入ください。
Q6. 推薦状は、デュオとしての活動に対するものを2枚提出すればよいですか？あるいは、各自2枚ずつ提出すべきですか？
A. デュオとしての推薦状を2通ご提出ください。
その他
Q7. リサーチのために日本国内を旅行することは可能ですか？それとも東京に限定して滞在しなければなりませんか？
A. 制作活動やリサーチに関連のある場合は可能です。事前に申請書を提出していただきます。
Q8. TOKAS以外の宿泊施設や旅行にかかる費用は自己負担でしょうか？それとも援助があるのでしょうか？
A. 自己負担です。
Q9. 全滞在期間で滞在可能です。もし選ばれた場合は、自分で滞在期間を選択できますか？
A. できません。調整のうえ、TOKASが決定します。
Q10. 家族や友人と一緒に滞在できますか？
A. できません。家族やパートナー、子供、友人、ゲスト等の宿泊は認めていません。
お問い合わせ
contact_residency2020[at]tokyoartsandspace.jp （[at]を@に代えてください）
上記に掲載されているFAQ以外のお問合わせについては、2020年6月3日（水）までに上記Emailまでお送りください。
質問への回答は、2020年6月10日（水）以降にFAQに追加し公開します。
※原則として、個別の回答は行っておりません。また、電話でのお問い合わせはご遠慮ください。
